1. Aligned Carbon Nanotube
پدیدآورنده : / by Zhifeng Ren, Yucheng Lan, Yang Wang
کتابخانه: المكتبة المركزية مركز التوثيق وتزويد المصادر العلمية (أذربایجان الشرقیة)
موضوع : Physics,Engineering,Optical materials,Nanotechnology,Electronic books
رده :
E-BOOK
2. Aligned carbon nanotubes :
پدیدآورنده : Zhifeng Ren, Yucheng Lan, Yang Wang.
کتابخانه: کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان های اروپایی (قم)
موضوع : Carbon.,Nanotubes.,TECHNOLOGY & ENGINEERING -- Mechanical.
رده :
TA418
.
9
.
N35
Z454
2013
3. Chemical vapor deposition for microelectronics :
پدیدآورنده : by Arthur Sherman.
کتابخانه: کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان های اروپایی (قم)
موضوع : Chemical vapor deposition.,Integrated circuits-- Design and construction.,Aufdampfen.,Aufdampfen.,Chemical vapor deposition.,CVD-Verfahren.,CVD-Verfahren.,Dépôt en phase vapeur.,Integrated circuits-- Design and construction.,Microélectronique.,Mikroelektronik.,Mikroelektronik.
رده :
TS695
.
S54
1987
4. Chemical vapor deposition: principles and application
پدیدآورنده : / edited by Michael L.Hitchman, Klavs F.Jensen
کتابخانه: المكتبة المركزية مركز التوثيق وتزويد المصادر العلمية (أذربایجان الشرقیة)
موضوع : Plasma- Enhanced chemical vapor deposition,Vapor deposition
رده :
TS695
.
15
.
C33
1983
5. Development of a Monolithic Implantable Neural Interface from Cubic Silicon Carbide and Evaluation of Its MRI Compatibility
پدیدآورنده : Beygi, Mohammad
کتابخانه: کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان های اروپایی (قم)
موضوع : Biomedical engineering,Electrical engineering,Electromagnetics
6. Development of a Monolithic Implantable Neural Interface from Cubic Silicon Carbide and Evaluation of Its MRI Compatibility
پدیدآورنده : Beygi, Mohammad
کتابخانه: کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان های اروپایی (قم)
موضوع : Biomedical engineering,Electrical engineering,Electromagnetics
7. Dielectric films for advanced microelectronics
پدیدآورنده : / edited by Mikhail Baklanov, Martin Green, and Karen Maex
کتابخانه: المكتبة المركزية مركز التوثيق وتزويد المصادر العلمية (أذربایجان الشرقیة)
موضوع : Dielectric films,Microelectronics, Materials
رده :
TK7871
.
15
.
F5
,
D54
2007
8. Dielectric films for advanced microelectronics
پدیدآورنده : / edited by Mikhail Baklanov, Martin Green, and Karen Maex
کتابخانه: المكتبة المركزية مركز التوثيق وتزويد المصادر العلمية (أذربایجان الشرقیة)
موضوع : Dielectric films,Microelectronic--Materials
رده :
E-BOOK
9. Dustry plasmas : physics, chemistry and technological impacts in plasma processing
پدیدآورنده : edited by Andre Bouchoule
کتابخانه: (طهران)
موضوع : Plasma engineering , Plasma )Ionized gases( , Dusty Plasmas , Plasma chemistry , Plasma-enhanced chemical vapor deposition
رده :
TA
2020
.
D88
1999
10. Dusty Plasmas: Physics, Chemistry and Technologyical impacts in plasma
پدیدآورنده : / Edited by Andre Bouchoule
کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اطلاع رسانی دانشگاه محقق اردبیلی ره (أردبیل)
موضوع : Plasma engineering.,Plasma(Ionized gases _ Industrial applications).,Dust.,Plasma chemistry.,Plasma enhanced chemical vapor deposition.
رده :
TA2020
.
D
38
11. Dusty plasma: Physics, chemistry and technological impacts in plasma processing
پدیدآورنده : / edited by Andre Bouchoule
کتابخانه: المكتبة المركزية مركز التوثيق وتزويد المصادر العلمية (أذربایجان الشرقیة)
موضوع : Plasma engineering,Plasma (Ionized gases)- Industrial applications,Dust,Plasma chemistry,Plasma enhanced chemical vapor deposition
رده :
TA2020
.
D88
1999
12. Dusty plasmas:physice,chemistry and technological impacts in plasma processing
پدیدآورنده :
کتابخانه: كتابخانه مركزي و مركز اسناد دانشگاه مازندران (مازندران)
موضوع : Plasma engineering,Plasma(Ionized gases-Industrial applications),Dust,Plasma chemistry,Plasma enhanced chemical vapor deposition
رده :
TA2020
.
D88
1999
13. Dusty plasmas : physics, chemistry, and technological impacts in plasma processing
پدیدآورنده : edited by Andre Bouchoule
موضوع : ، Plasma engineering,Industrial applications ، Plasma )Ionized gases(,، Dusty plasmas,، Plasma chemistry,، Plasma-enhanced chemical vapor deposition
۲ نسخه از این کتاب در ۲ کتابخانه موجود است.
14. Dusty plasmas : physics, chemistry, and technological impacts in plasma processing
پدیدآورنده : edited by Andre Bouchoule
کتابخانه: (طهران)
موضوع : ، Plasma engineering,Industrial applications( ، Plasma )Ionized gases(,، Dusty plasmas,، Plasma chemistry,، Plasma-enhanced chemical vapor deposition
رده :
TA
2020
.
D8
15. Emerging Technologies for In Situ Processing
پدیدآورنده : edited by Daniel J. Ehrlich, Van Tran Nguyen.
کتابخانه: کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان های اروپایی (قم)
موضوع : Computer engineering.,Surfaces (Physics)
رده :
TK7874
.
E358
1988
16. Encyclopedia of Membranes / Volume 2, F-N / Enrico Drioli, Lidietta Giorno - editors.
پدیدآورنده : Enrico Drioli, Lidietta Giorno - editors.
کتابخانه: کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان های اروپایی (قم)
موضوع :
17. Film Deposition by Plasma Techniques
پدیدآورنده : by Mitsuharu Konuma.
کتابخانه: کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان های اروپایی (قم)
موضوع : Engineering.,Physics.
18. Handbook of plasma processing technology
پدیدآورنده : / edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood
کتابخانه: المكتبة المركزية مركز التوثيق وتزويد المصادر العلمية (أذربایجان الشرقیة)
موضوع : Plasma engineering,Semiconductors, Etching,Plasma etching
رده :
TA2020
.
H37
1990
19. Heteroepitaxial Growth And Deposition Of Semiconductor And Metallic Nano-Materials With Intermediate Layers
پدیدآورنده : Zhang, Junce
کتابخانه: کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان های اروپایی (قم)
موضوع :
